纳米氮化硅的特性及应用

纳米氮化硅的特性及应用

纳米氮化硅VK-SN100、粉通过特殊工艺方法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，松装密度低，紫外线反射率为95%以上和吸收红外波段的吸收率在97%以上，器件的成瓷温度低，尺寸稳定性好，机械强度高，耐化学腐蚀性能好。 

一、Si3N4（VK-SN100）的特性

二、氮化硅的详细性能指标如下：

1、耐热，在常压下，Si3N4没有熔点，于1870℃左右直接分解，可耐氧化到1400℃，实际使用达1200℃(超过1200℃力学强度会下降)。

2、热膨胀系数小（2.8-3.2）×10-6/℃，导热系数高，抗热震，从室温到1000℃热冲击不会开裂。

3、摩擦系数小（0.1），有自润滑性，（加油的金属表面摩擦系数0.1-0.2）。

4、化学性质稳定，耐腐蚀，除氢氟酸外不与其他其他无机酸反应，800℃干燥气氛下不与氧发生反应，超过800℃，开始在在表面生成氧化硅膜，随着温度升高氧化硅膜逐渐变稳定，1000℃左右可与氧生成致密氧化硅膜。可保持至1400℃基本稳定。

5、氮化硅硬度高，耐磨损，莫氏硬度仅次于金刚石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅，抗机械冲击。

6、韧性大，可采用氮化硅纤维增韧，使其高温强度稳定。