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纳米氮化硅的特性及应用

2023-09-02 08:27143

纳米氮化硅的特性及应用

纳米氮化硅VK-SN100、粉通过特殊工艺方法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,松装密度低,紫外线反射率为95%以上和吸收红外波段的吸收率在97%以上,器件的成瓷温度低,尺寸稳定性好,机械强度高,耐化学腐蚀性能好。 

一、Si3N4(VK-SN100)的特性

二、氮化硅的详细性能指标如下:

1、耐热,在常压下,Si3N4没有熔点,于1870℃左右直接分解,可耐氧化到1400℃,实际使用达1200℃(超过1200℃力学强度会下降)。

 

2、热膨胀系数小(2.8-3.2)×10-6/℃,导热系数高,抗热震,从室温到1000℃热冲击不会开裂。

 

3、摩擦系数小(0.1),有自润滑性,(加油的金属表面摩擦系数0.1-0.2)。

 

4、化学性质稳定,耐腐蚀,除氢氟酸外不与其他其他无机酸反应,800℃干燥气氛下不与氧发生反应,超过800℃,开始在在表面生成氧化硅膜,随着温度升高氧化硅膜逐渐变稳定,1000℃左右可与氧生成致密氧化硅膜。可保持至1400℃基本稳定。

 

5、氮化硅硬度高,耐磨损,莫氏硬度仅次于金刚石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅,抗机械冲击。

 

6、韧性大,可采用氮化硅纤维增韧,使其高温强度稳定。

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